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Erfolgreiches Symposium zur Mustererkennung

Die Deutsche Arbeitsgemeinschaft für Mustererkennung (DAGM) blickt auf eine erfolgreiche 38. ‚German Conference on Pattern Recognition‘ (GCPR 2016) zurück. Die Konferenz fand vom 12. bis 15. September in Hannover statt. Die 150 Teilnehmer aus Wissenschaft und Industrie hatten reichlich Gelegenheit, sich über wichtige Neuerungen aus der Bildverarbeitung und Mustererkennung zu informieren und auszutauschen. Das Thema Deep Learning spielte dabei in zahlreichen Vorträgen, Workshops und Tutorien eine große Rolle.

www.dagm.de

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