Industrielle Weißlicht-Interferometer mit nm-Präzision
Folien, Flachglas, Computerfestplatten, Displays oder Halbleiterwafer müssen mit enormer Genauigkeit gefertigt werden. Eine entsprechend präzise Messtechnik zur hochgenauen Abstands- und Dickenmessung ist die optische Interferometrie. Micro-Epsilon stellt drei entsprechende neue Messsysteme vor.
Das Messprinzip eines Interferometers basiert auf der Wellennatur des Lichts. Diese führt dazu, dass sich überlagernde Wellen entweder verstärken oder auslöschen. Teilt man einen Lichtstrahl so auf, dass er verschiedene Wege nimmt und sich die beiden Teilstrahlen im Anschluss wieder überlagern, tritt eine Interferenz auf, die von der Differenz der beiden Wege abhängig ist. Ändert sich die Länge eines der beiden Wege um eine halbe Wellenlänge des verwendeten Lichts, so führt das zu einem kompletten Wechsel von positiver Interferenz (Verstärkung) zu negativer Interferenz (Auslöschung). Die Genauigkeit der Messmethode liegt im nm- bis sogar im Sub-nm-Bereich. Um mit dieser Methode z.B. Abstände zu messen, wird einer der beiden Teilstrahlen am Messobjekt reflektiert und anschließend mit dem Referenzstrahl überlagert. Ändert sich der Abstand zum Messobjekt, lässt sich die Abstandsänderung an der Interferenz feststellen. Sollen Dicken etwa von Folien oder Gläsern gemessen werden, wird ausgenutzt, dass sowohl Vorder- als auch Rückseite des Messobjekts reflektieren. Da die beiden interferierenden Teilstrahlen bei der Dickenmessung von der Ober- und Unterfläche stammen, ist das Messergebnis unabhängig vom Abstand zum Messobjekt.